長期供貨

京都玉崎到貨！SEM坂本電機(jī) 數(shù)字水平儀 SELN-001B！

京都玉崎到貨！SEM坂本電機(jī) 數(shù)字水平儀 SELN-001B！

日本原裝產(chǎn)品到貨深圳倉庫后，京都玉崎倉庫負(fù)責(zé)人對其驗(yàn)貨，核對數(shù)量及質(zhì)量問題安排入庫。

再安排人員檢驗(yàn)合格后，均已符合出廠要求。

客戶九月上旬咨詢并訂貨兩臺SEM坂本電機(jī) 數(shù)字水平儀 SELN-001B！ ，10月23日上午產(chǎn)品由深圳倉庫由專業(yè)人員進(jìn)行檢驗(yàn)，檢驗(yàn)完畢后。一周內(nèi)將發(fā)往廣東珠海給對應(yīng)采購的客戶。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1. 雙軸同步測量

同時(shí)檢測X/Y軸傾斜，避免單軸測量導(dǎo)致的調(diào)整誤差，確保設(shè)備水平度在0.001°級精度內(nèi)。

測量分辨率達(dá)0.0002°，零點(diǎn)重復(fù)性±0.001°或更低，滿足半導(dǎo)體設(shè)備對微小傾斜的嚴(yán)苛要求。

2. 實(shí)時(shí)數(shù)字反饋與遠(yuǎn)程監(jiān)控

通過4.3英寸彩色LCD觸摸屏或外接顯示器直接顯示角度值，支持μm/m或角度單位（°、°′″）切換。

數(shù)據(jù)可實(shí)時(shí)輸出至云端或本地系統(tǒng)，配合AI算法生成三維空間偏差分析報(bào)告，優(yōu)化調(diào)整流程。

3. 抗干擾設(shè)計(jì)與環(huán)境適應(yīng)性

采用電磁屏蔽和振動補(bǔ)償算法，確保在半導(dǎo)體車間復(fù)雜電磁環(huán)境與機(jī)械振動下的測量穩(wěn)定性。

工作溫度范圍-10°C至+50°C，適應(yīng)無塵車間恒溫控制需求。

二、在半導(dǎo)體制造中的具體應(yīng)用案例

1、光刻機(jī)校準(zhǔn)

晶圓臺調(diào)平：光刻機(jī)工作臺傾斜會導(dǎo)致焦平面偏移，影響曝光精度。SELN-001B可快速檢測并調(diào)整至≤0.001°，確保EUV/DUV光刻的成像質(zhì)量。

光學(xué)系統(tǒng)校準(zhǔn)：用于調(diào)整反射鏡、透鏡組的角度，優(yōu)化光路準(zhǔn)直，減少像差，提升關(guān)鍵尺寸（CD）控制精度。

2、刻蝕設(shè)備調(diào)平

反應(yīng)腔室調(diào)平：確保等離子體均勻分布，避免刻蝕速率不均（如邊緣與中心差異），提升晶圓內(nèi)均勻性（WIU）。晶圓承載臺校準(zhǔn)：雙軸同步測量優(yōu)化承載臺水平度，減少刻蝕偏差，降低缺陷率。

3、鍍膜設(shè)備安裝

真空腔室調(diào)平：高精度調(diào)平縮短設(shè)備安裝時(shí)間，提高鍍膜均勻性，滿足納米級薄膜工藝要求。

蒸發(fā)源角度校準(zhǔn)：確保材料沉積厚度一致，減少薄膜應(yīng)力導(dǎo)致的晶圓彎曲。

4、后道工藝支持

CMP（化學(xué)機(jī)械拋光）：拋光平臺水平度直接影響晶圓表面平坦度，SELN-001B可實(shí)時(shí)監(jiān)測并調(diào)整，降低表面粗糙度（Ra）。

晶圓鍵合機(jī)：在3D NAND等堆疊工藝中，確保鍵合界面對準(zhǔn)精度，減少層間錯位。